ACTIVITY SUPPORT 支援内容

学内および学外からの利用が可能なクリーンルームを備え、シリコン系（3～4インチ対応）素子の微細加工と関連プロセス設備群を中心に、一連の設備を持ち、教育と研究および研究支援を推進しています。電子線描画や酸化・拡散炉など、微細加工に必要な標準設備を揃え、一連の試作が施設内で実施可能です。この基盤技術と、多種多様なナノテクノロジー材料を扱う研究室群とが密接に連携して研究活動を進めています。2012年から10年間ナノテクノロジー・ネットワーク事業で推進してきましたシリコン微細加工技術と、様々な材料によるナノ構造体とのハイブリッド化に関する支援を強化しております。クリーンルームは企業で実務経験のある技術職員が管理しており、高度な技術指導や委託加工も対応いたします。さらに支援担当の研究室群から、Ⅲ-Ⅴ族、カーボン、磁気材料にも対応できるナノ構造の加工・形成・計測評価用の設備群も提供し、学内研究者がご協力いたします。小規模大学ながら、太陽電池、ナノ構造素子と素材、MEMSなどに関する研究設備と技術を提供させていただいております。走査プローブ顕微鏡やX線計測分野の装置と技術から、構造評価も一か所で迅速に対応が可能です。協力研究室の主要設備は、学外研究者の利用も可能となっております。

本学では、｢マテリアル先端リサーチインフラ事業｣実施機関として、｢微細加工ナノプラットフォームコンソーシアム実施機関｣で支援してきた内容も対応可能です。ご質問、ご相談は、各担当者にお気軽にご連絡ください。

• （1）シリコン超微細加工と評価の支援

• （2）MEMSデバイスの作製と評価に関する支援

• （3）化合物半導体量子構造の作製、評価、応用に関する支援

• （4）カーボン系ナノ材料、化合物半導体・シリコン系ナノ構造の作製と評価の支援

• （5）プローブ顕微鏡による表面科学計測、ナノカーボン創製と応用の支援

• （6）スピントロニクス材料とデバイスの作製と評価の支援

支援形態は以下の通りです。

（2）MEMSデバイスの作製と評価に関する支援

ナノ構造とも組み合わされるMEMSデバイスの製作と評価を支援する。Siの深堀エッチング加工や犠牲層エッチング、フォトリソグラフィを駆使する3次元構造形成、新規デバイスの製作と評価を支援する。評価には、光干渉式3次元表面形状測定による動的特性評価も含まれる。

「マイクロアクチュエータの基礎」

2019 年度 微細加工ナノプラットフォーム
コンソーシアム シンポジウム資料

担当者

佐々木実 教授  
mnr-sasaki★toyota-ti.ac.jp（★は@に置き換えてください）

（4）カーボン系ナノ材料、化合物半導体・シリコン系ナノ構造の作製と評価の支援

化合物半導体、シリコンなど半導体ナノ構造の物性評価と、太陽電池応用の評価を支援する。物性評価には、電界放出形走査電子顕微鏡（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）（表面構造、結晶方位解析）などによる構造評価、半導体の電子物性（キャリア濃度、移動度）、キャリア寿命測定などを含む。

特性評価、測定例

担当者

大下祥雄 教授 
y_ohshita★toyota-ti.ac.jp（★は@に置き換えてください）

小島信晃 講師 
Nkojima★toyota-ti.ac.jp（★は@に置き換えてください）

（6）スピントロニクス材料とデバイスの作製と評価の支援

ナノサイズの細線パターン状に形成する、微弱電流磁壁駆動磁性細線メモリのための情報記録スピン材料の創生と評価に関する支援を行う。省電力・大容量メモリ、省電力スピンロジック、近接場光磁気記録、超高感度磁気センサー、温度センサーなどが関係する。

Current-induced dynamics of bubble domains in perpendicularly magnetized TbFeCo wires

担当者

粟野博之 教授 
awano★toyota-ti.ac.jp（★は@に置き換えてください）